ストローク500 mm x 500 mm 垂直真直度 繰返し位置決め精度±0.5µm 精度 ±1.5µm ストローク 200 mm x 200 mm, オプション 300 mm x 300 mm 全ストロークに亘っての水平度 ±4 µm 両軸に亘っての繰返し位置決め精度 ±1 µm 両軸に亘っての精度 ±4 µm クリーンルーム適合性 クラス 100; オプションクラス 10 摩擦のないエアベアリングステージ コアレスリニアモータはコギングがありません。 1,500 mmまでのストローク 過熱平板から取り上げられた材料の高速初期化フェーズ 溶接は時間、力およびパスによって制御されます。 高速ロード/アンロードシステム半導体検査および露光エアベアリング付高精度ガントリステージは平面モニタおよびマスク製造において必要不可欠です。これを用いることにより、電子、チップ、および平面パネル産業のウエハ製造において、微小な欠陥を検出し、精密マスクを製造することが可能になります。マイクロシステム技術およびウエハ処理マイクロシステム技術およびウエハ処理用の位置決めにおいて、絶対精度およびクリーンルーム条件に対する適合性は不可欠です。リニアモータクロスステージはこの要求に合っています。レーザスキャナレーザスキャナのような光学検査システムでは、滑らかな運動と長寿命は不可欠です。エアベアリングを用いたリニアモータステージはこの要求に合致します。合成材料溶接用の水平高速度ホット溶接機絶対位置測定機能を持つLMX1L シリーズのリニアモータステージは次の機能を持ちます。10-26
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